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Branchenmeldungen 05.12.2018

Prof. Dr. Daniel Buser erhält Eskow Implant Dentistry Award

Prof. Dr. Daniel Buser erhält Eskow Implant Dentistry Award

Seine wegweisende Forschung in der Osseointegration wurde in NYC geehrt.

Im Rahmen des 29. Annual NYU/ICOI Implant Symposiums in New York City am 10. November 2018 wurde Prof. Dr. Daniel Buser, Bern, mit dem Robert N. Eskow NYUCD Implant Dentistry Award ausgezeichnet.

Ein Höhepunkt der Veranstaltung, die mit über 230 Teilnehmern hervorragend besucht war, stellte Prof. Dr. Busers Vortrag «State-of-the-art implant surgery in partially edentulous patients: How much digital technology is used in daily practice» dar.

Der Eskow Implant Dentistry Award ehrt herausragende Leistungen in der Implantologie sowie bedeutende Beiträge zur wissenschaftlichen und klinischen Anwendung derselben. «Prof. Dr. Buser hat sich um diese Ehre hochverdient gemacht», so Dr. Peter Loomer, klinischer Professor und Vorsitzender der Ashman-Abteilung für Parodontologie und Implantologie der NYU. «Seine Forschung über Osseointegration hat unser Wissen auf diesem Gebiet grundlegend vorangebracht und die Patientenversorgung signifikant verbessert.»

Prof. Buser ist Universitätsprofessor und Direktor der Klinik für Oralchirurgie und Stomatologie an den Zahnmedizinischen Kliniken der Universität Bern. Als Autor und Co-Autor von über 300 Fachartikeln, Übersichtsarbeiten, Fallstudien und Buchkapiteln sowie mit knapp 13.000 Verweisen auf seine Arbeit in einschlägiger Fachliteratur zählt Prof. Dr. Buser zu den führenden Implantologen weltweit. Sein Forschungsschwerpunkt liegt hauptsächlich in der Knochenheilung bei Titanimplantaten und der membrangeschützten Knochenregeneration.

Quelle: New York University

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